此时此刻，赵烨发动自己所有能够调动的力量，在全世界各地购买g线光刻胶。
但，即便是这样做，也只不过是解决一时的问题，长久下去，无疆微电子公司肯定是坚持不了。
归根结底，还是需要自己开发出光刻胶。
……
无疆微电子公司总部。
无疆光刻胶公司的人也来了。
会议室内，所有人都觉得憋屈。
赵烨反倒是看的最开，前世，他就经历过华为手机芯片被断供的悲剧。
事实上，这种事非常多，不止是芯片断供，还有生产设备断供、EDA断供……
中国发展半导体产业，必须自力更生，没有退路可言！
不要指望别人会大发善心。
以美国为首的西方国家允许RB、韩国发展尖端半导体产业。
但中国就不行。
没办法，中国太强大了。
一山难容二虎，除非一公一母。
地球只不过是大一点的山头罢了。
老美是不允许有人威胁到自己世界老大的地位。
所以，任何抱有侥幸心理的想法都是错误的。
赵烨重生归来，就坚定了国内半导体产业要走自主研发的道路。虽然艰难，但不是没可能。
中国是全球唯一拥有全产业链的国家！
虽然各方面都落后，但是潜力巨大。
而且，中国市场庞大，未来也足以养活整个半导体产业链上面的公司。
荷兰阿斯麦EVU虽说有10万多个零件，五千个零件供应商，但其实大部分零件，中国也可以开发出来。少部分技术比较难的零件，难道中国多花点时间依旧攻克不了？
事在人为！
而且，现在是80年代，光刻机的发展才起步。中国光刻机发展起来，反而会压制其他半导体公司的发展。
就赵烨所知，光刻机到了90年代之后，几乎一二十年内都没有多少进步，业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，而157nm将成为主流技术。
直到2002，台积电的林本坚提出了193nm浸没式光刻的概念，此前，光刻机都是干式光刻机。
到了2007年，ASML阿斯麦与台积电合作开发，成功推出第一台浸没式光刻机，使得193nm光波在水中的等效波长缩短为134nm，足可超越 157nm的极限
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